EUV光刻机
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台积电投资逾4000亿新台币采购EUV光刻机,未来两年将接收超60台
据台湾《工商时报》报道,全球领先的半导体制造商台积电计划在未来两年(2024年至2025年)内接收超过60台极紫外(EUV)光刻机,以满足其日益增长的芯片制造需求。据估算,台积电今…
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euv光刻机怎么研究出来的?一文读懂发展历程与技术挑战
EUV光刻机,这一代表着半导体制造领域高精尖技术的设备,其研发历程可谓历尽艰辛,技术难度极高。从上世纪80年代开始,EUV光源的研发就吸引了全球科研人员的目光。当时,科研人员致力于探索4nm至40nm的多个波长,力求找到最适合光刻技术的光源。与此同时,电子束光刻机、离子束光刻等技术也在同步研发中,各种技术路线竞争激烈。